Photolithography ay gumagamit ng tatlong pangunahing hakbang sa proseso upang ilipat ang isang pattern mula sa isang mask patungo sa isang wafer: coat, develop, expose. Ang pattern ay inilipat sa ibabaw na layer ng wafer sa panahon ng kasunod na proseso. Sa ilang mga kaso, ang resist pattern ay maaari ding gamitin upang tukuyin ang pattern para sa isang nakadepositong thin film.
Ano ang photolithography Paano ito gumagana?
Ang
Photolithography ay isang patterning na proseso kung saan ang isang photosensitive polymer ay piling nalalantad sa liwanag sa pamamagitan ng mask, na nag-iiwan ng latent na imahe sa polymer na maaaring piliing matunaw upang magbigay ng patterned access sa isang pinagbabatayan na substrate.
Bakit ginagamit ang photolithography?
Ang
Photolithography ay isa sa pinakamahalaga at pinakamadaling paraan ng microfabrication, at ginagamit upang lumikha ng mga detalyadong pattern sa isang materyal. Sa pamamaraang ito, maaaring mag-ukit ng hugis o pattern sa pamamagitan ng selective exposure ng light sensitive polymer sa ultraviolet light.
Bakit ginagamit ang UV light sa photolithography?
Photolithography nagbibigay-daan sa 3D encapsulation ng mga cell sa loob ng mga hydrogel sa pamamagitan ng pag-crosslink sa cell-containing prepolymer sa ilalim ng UV light. Ginagamit ang photomask para makuha ang gustong pattern [88].
Ano ang mga kinakailangan sa photolithography?
Sa pangkalahatan, ang proseso ng photolithography ay nangangailangan ng tatlong pangunahing materyales, light source, photo mask, at photoresist. Photoresist, isang photosensitive na materyal,may dalawang uri, positibo at negatibo. Ang positibong photoresist ay nagiging mas natutunaw pagkatapos ng exposure sa isang light source.
